中微公司获发明专利授权助力半导体制造技术升级

时间: 2025-02-16 01:59:45 |   作者: 高清滑环系列

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  近日,中微公司传来好消息,其申请的发明专利“等离子体处理装置”正式取得授权,专利号为CN4.1,授权日期为2025年2月14日。这一创新成果标志着公司在半导体制造技术领域再次取得重要突破。

  该专利的核心在于其独特的等离子体处理装置设计,包括反应腔、气体喷淋头、下电极组件、导电移动环、等离子体约束环以及导电垫片等关键组件。通过这一设计,装置能够有实际效果的减少移动环表面聚合物的沉积,从而显著提升设备的常规使用的寿命和处理效率。这一技术的突破将为半导体制作的完整过程中的等离子体处理工艺提供更高效、更稳定的解决方案。

  值得注意的是,中微公司今年以来在专利授权方面表现尤为突出,已获得29项新专利,较去年同期增长了222.22%。这一增长背后是公司持续加大研发投入的结果。根据2024年中报数据,中微公司在研发方面投入了5.68亿元,同比增长94.58%。如此高强度的研发投入,不仅体现了公司对技术创新的格外的重视,也为行业技术升级提供了坚实支撑。

  这一专利的获得不仅是中微公司创造新兴事物的能力的体现,也为整个半导体行业带来了新的发展机遇。随技术的慢慢的提升,等离子体处理装置的应用前景将更加广阔,有望在更多领域推动生产效率的提升和制造成本的降低。

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  总的来说,中微公司此次获得的发明专利不仅彰显了其在半导体制造技术领域的深厚实力,也为行业技术升级注入了新的活力。未来,随着更多创新成果的涌现,我们有理由相信,中国在半导体技术领域的国际竞争力将不断的提高,为全球经济和技术发展贡献更多力量。

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