武汉华星光电新专利:降低显示器无机层失效风险!

时间: 2025-05-19 10:54:59 |   作者: 兆瓦级风电变浆滑环

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  近日,金融界消息指出,武汉华星光电半导体显示技术有限公司于2024年11月向国家知识产权局申请了一项名为“阵列基板和显示装置”的专利,公开号为CN119653861A。该专利意在通过独特的设计手段,降低显示器中无机层失效的风险,堪称显示技术的一个重大突破!

  专利摘要透露,该阵列基板由多个层次构成,包含衬底、金属遮光层、一层有源层、无机叠层及导电层。特别之处在于,无机叠层在关键位置部署了过孔,这种设计可以显著减少裂纹的产生,进而大大降低无机层失效的几率,让显示亚光的表现更加稳健。

  作为一家成立于2016年的科技公司,武汉华星光电专注于计算机、通信及其他电子设备的制造。经过几年的发展,此公司已经积累了大量的创新专利和投标项目,显示出其在行业内的强大实力。根据天眼查的数据,该公司已参与了504个招投标项目,并注册了超过5000条专利信息,此外,企业还持有366个行政许可。

  可以说,这一新专利不仅推动了公司自身的技术升级,更为整个显示行业的未来发展开辟了新的可能。随着科学技术的慢慢的提升,武汉华星光电在面临日益激烈的市场之间的竞争时,选择通过技术创新来增强自身的核心竞争力,这无疑是对行业的一次积极推动。展望未来,这一独特的显示技术有望为广大购买的人带来更高品质的视觉体验,让我们大家一起期待华星光电的精彩表现!返回搜狐,查看更加多